高溫還原氧化兩用爐

產(chǎn)品說明：

高溫還原氧化兩用爐是未來滿足市場需求本公司的新產(chǎn)品。 1、多組溫區(qū)控制，工藝曲線調(diào)節(jié)精確，爐溫均勻，滿足生產(chǎn)優(yōu)質(zhì)熒光粉的 灼燒成工藝要求。 2、緊湊式爐門結構，壓緊密封,動作可靠； 3、爐內(nèi)隔層密封處理，爐膛采用高純爐管,外層硅鉬棒兩側(cè)加熱； 4、爐底設耐磨瓷板 5、爐尾可調(diào)進氣方式，便于調(diào)節(jié)控制爐膛氣氛； 6、各溫區(qū)可以獨立控制，人性化操作臺面

主要技術參數(shù)：

適用氣氛：還原性低氫氣氛(含≤10%H2)或氧化氣氛
最高使用溫度：1500℃，設計溫度：1600℃；（進口測溫環(huán)為準）
恒溫區(qū)截面溫度均勻性：±3℃；
溫控點數(shù)：7點控溫；測溫點2個
主推推進速度：5～50㎜/min（無極連續(xù)可調(diào)）；
主推進機設計推力：2T
多組溫區(qū)控制：工藝曲線調(diào)節(jié)精確；
發(fā)熱元件規(guī)格：U型硅鉬棒